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Finiture superficiali alluminio: assemblea generale Aital a Torino

Si è tenuta a Torino l’Assemblea Generale Aital 2016. Al centro, importanti iniziative per il futuro del comparto delle finiture sull’alluminio

Si è svolta a Torino l’Assemblea Generale Aital 2016. I lavori sono stati aperti dal presidente, ing. Francesco Memoli, coadiuvato dal segretario generale, ing. Giampaolo Barbarossa.

Quello di Memoli è stato un intervento focalizzato principalmente sulla situazione congiunturale del mercato delle finiture superficiali su alluminio, mentre l’ing. Barbarossa ha presentato un quadro completo delle varie attività che l’associazione ha condotto nell’ultimo periodo e dei programmi per l’immediato futuro.

Dal 2007 ad oggi i consumi di semilavorati anodizzati e verniciati per applicazioni in edilizia sono calati di circa il 50% e la tendenza non accenna a cambiare in maniera netta e consistente. Diversa è invece la situazione degli altri settori industriali, soprattutto di quelli legati ai trasporti che, soprattutto per l’anodizzazione, nell’ultimo anno hanno confermato gli interessanti segnali di ripresa già raggiunti l’anno precedente. Qualche dato sulla produzione? Anodizzazione: +7,4%, verniciatura +4,4%, decorazione +8,7%, prodotti vernicianti: +5,6%.

 

È seguita poi un’ampia presentazione delle attività che ha impegnato l’associazione su molti fronti. Tra i quali va segnalata la collaborazione Politecnico di Milano in merito all’organizzazione, nello scorso mese di ottobre, della terza edizione di un Industrial Short Master sui trattamenti superficiali del ferro e dell’alluminio a cui ha partecipato un folto numero di allievi e che, visto l’interesse e l’elevato numero di adesioni, sarà riproposto con una quarta edizione da tenersi a giugno del 2017.

All’assemblea hanno partecipato per la parte informativa anche Centroal (dr. Orazio Zoccolan) e Unicmi (il direttore generale Pietro Gimelli) che hanno illustrato le importanti iniziative che le due associazioni stanno portando avanti a favore dell’alluminio.